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脫硝技術(shù)的機(jī)械總述

脫硝技術(shù)的機(jī)械總述

技術(shù)要求: 投標(biāo)方根據(jù)本技術(shù)規(guī)范要求,提供完整的煙氣脫硝裝置工藝系統(tǒng)的基本設(shè)計和詳細(xì)的設(shè)計,以及規(guī)定范圍的供貨和服務(wù),并確保脫硝裝置的性能; 系統(tǒng)裝置先進(jìn)、安全

技術(shù)要求

投標(biāo)方根據(jù)本技術(shù)規(guī)范要求,提供完整的煙氣脫硝裝置工藝系統(tǒng)的基本設(shè)計和詳細(xì)的設(shè)計,以及規(guī)定范圍的供貨和服務(wù),并確保脫硝裝置的性能;系統(tǒng)裝置先進(jìn)、安全、可靠、便于運(yùn)行維護(hù);所有的設(shè)備和材料是新的,并且與氨水溶液有關(guān)的設(shè)備、管道閥門及相關(guān)輔材采用耐腐蝕材質(zhì);兩年內(nèi)裝置連續(xù)使用率≥98%;節(jié)約用地、節(jié)省投資、運(yùn)行費(fèi)用低;工藝流程合理、裝置布置簡潔、美觀; 觀察、監(jiān)視、維護(hù)簡單、運(yùn)行人員少; SNCR脫硝裝置對窯爐熱效率影響在0.5%以下;為了與窯爐運(yùn)行匹配,脫硝裝置的設(shè)計確保能快速啟動,且在窯爐負(fù)荷波動時應(yīng)有良好的適應(yīng)特性,在運(yùn)行條件下能穩(wěn)定、可靠的連續(xù)運(yùn)行。

設(shè)計原則

SNCR系統(tǒng)主要包括還原劑儲存?zhèn)湎到y(tǒng)、還原劑循環(huán)輸送系統(tǒng)、稀釋水系統(tǒng)、計量分配系統(tǒng)、噴射系統(tǒng)和電儀系統(tǒng)組成。還原劑儲存?zhèn)湎到y(tǒng)實(shí)現(xiàn)氨水溶液的制備與儲存,然后由還原劑循環(huán)輸送系統(tǒng)輸送至計量分配系統(tǒng),還原劑與來自稀釋水系統(tǒng)的水混合,一起送入計量分配系統(tǒng)。分配系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)噴射層的氨水溶液計量、分配和霧化噴射。還原劑的供應(yīng)量能滿足窯爐不同負(fù)荷的要求,調(diào)節(jié)方便、靈活、可靠;氨水溶液分配系統(tǒng)應(yīng)配有良好的控制系統(tǒng)。工藝系統(tǒng)設(shè)計原則包括:(1)脫硝工藝采用選擇性非催化還原法(SNCR)。(2)本項(xiàng)目為三條獨(dú)立的SNCR脫硝系統(tǒng)。(3)脫硝系統(tǒng)須確保在任何情況下不影響窯爐的安全運(yùn)行。(4)每套系統(tǒng)還原劑制備采用25%氨水溶液,設(shè)置1座氨水儲罐,滿足48h使用要求。(5)SNCR脫硝裝置可用率不下于98%。(6)SNCR脫硝裝置服務(wù)壽命為30年。


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